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过滤型磁控阴极弧源由磁控阴极和磁过滤弯管组成和金属或金属陶瓷类薄膜的制备。电弧靶采用圆柱的设计,全自动的阴极设计可实现靶面的自动削平的功能,配合离子束流的扫描模块,可大幅提升有效薄膜沉积区域,达到工业化涂层生产的目的。
        过滤型磁控阴极弧源配备有专用的控制系统以实现高效稳定的工艺。

技术特点:
  提供ta-C涂层
  有效过滤离子束中的有害颗粒
 配备专有的电源和控制系统

典型应用:
 高精密模具
 耐磨擦自润滑零部件
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